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문제 정보
문제 ID: 637307
카테고리: 표면처리기능장
강의: 미분류
키워드: 없음
문제
다음 중 도금 조건에 따른 석출 물에 대한 설명으로 틀린 것은?
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단일 문제
정답
4번
: 매우 높은 전류밀도에서 음극 부근의 금속이온 농도가 0이 되어 이온 보급이 원활해 두꺼운 도금을 얻는다.
해설 gpt-4o-mini 생성
[정답 근거] → 4번은 "매우 높은 전류밀도에서 음극 부근의 금속이온 농도가 0이 되어 이온 보급이 원활해 두꺼운 도금을 얻는다"는 설명이 틀렸습니다. 높은 전류밀도에서는 음극 부근의 금속 이온 농도가 감소하여 이온 보급이 원활하지 않으며, 결과적으로 도금이 고르지 않거나 두껍게 형성되지 않습니다.
[오답 해설] → 1번은 도금 조건에 따라 핵발생 속도와 성장 속도가 달라져 석출 금속의 형태가 변할 수 있다는 설명으로 맞습니다. 2번은 저전도 밀도에서 핵발생 속도보다 성장 속도가 크면 거친 석출물이 형성된다는 설명이 맞습니다. 3번은 비교적 적은 전류밀도에서 균일한 결정 구조의 석출물을 얻는 것이 일반적이라는 설명으로 맞습니다.
[관련 개념] → 도금 과정에서 핵발생과 성장 속도는 석출물의 형태에 큰 영향을 미칩니다. 핵발생이란 새로운 결정이 형성되는 과정을 의미하며, 성장 속도는 이미 형성된 결정이 커지는 속도를 나타냅니다. 전류밀도는 도금의 품질과 두께에 직접적인 영향을 미칩니다.
[학습 포인트] → 도금 조건에 따른 석출물의 형성과 전류밀도의 영향을 이해하는 것이 중요합니다. 특히, 높은 전류밀도에서의 금속 이온 농도 변화가 도금 품질에 미치는 영향을 잘 이해해야 합니다.
[오답 해설] → 1번은 도금 조건에 따라 핵발생 속도와 성장 속도가 달라져 석출 금속의 형태가 변할 수 있다는 설명으로 맞습니다. 2번은 저전도 밀도에서 핵발생 속도보다 성장 속도가 크면 거친 석출물이 형성된다는 설명이 맞습니다. 3번은 비교적 적은 전류밀도에서 균일한 결정 구조의 석출물을 얻는 것이 일반적이라는 설명으로 맞습니다.
[관련 개념] → 도금 과정에서 핵발생과 성장 속도는 석출물의 형태에 큰 영향을 미칩니다. 핵발생이란 새로운 결정이 형성되는 과정을 의미하며, 성장 속도는 이미 형성된 결정이 커지는 속도를 나타냅니다. 전류밀도는 도금의 품질과 두께에 직접적인 영향을 미칩니다.
[학습 포인트] → 도금 조건에 따른 석출물의 형성과 전류밀도의 영향을 이해하는 것이 중요합니다. 특히, 높은 전류밀도에서의 금속 이온 농도 변화가 도금 품질에 미치는 영향을 잘 이해해야 합니다.
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문제 ID: 637307
카테고리: 표면처리기능장
강의: 미분류
키워드: 없음