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문제 정보

문제 ID: 652639

카테고리: 9급 지방직 공무원 기계일반

강의: 미분류

키워드: 없음

문제
반도체 제조공정에서 기판 표면에 코팅된 양성 포토레지스트(Positive photoresist)에 마스크(Mask)를 이용하여 노광공정(Exposing)을 수행한 후, 자외선이 조사된 영역의 포토레지스트만 선택적으로 제거하는 공정은?
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1 현상(Developing)
2 식각(Etching)
3 에싱(Ashing)
4 스트립핑(Stripping)
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정답
1번 : 현상(Developing)
해설

이 문제의 정답은 1번입니다. 9급 지방직 공무원 기계일반 영역에서 자주 출제되는 유형으로, 각 보기를 비교하며 핵심 개념을 정리해 두면 유사 문제에 충분히 대비할 수 있습니다. 상세 해설은 순차적으로 보강하고 있습니다.