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문제 ID: 653739

카테고리: 9급 지방직 공무원 서울시 공업화학

강의: 미분류

키워드: 없음

문제
다음 중 반도체 공정에 주로 이용되는 화학기상증착법(CVD)에 관한 설명으로 가장 옳지 않은 것은?
정답을 선택하세요
1 원료화합물을 기체 상태로 반응기 내에 공급하여 기판표면에서 화학반응에 의해 박막이 형성된다.
2 PECVD는 플라즈마를 CVD공정에 필요한 에너지로 사용하는 방법이다.
3 유기금속화합물을 원료로 사용하는 방법을 MOCVD라 부른다.
4 CVD는 일반적으로 물리적 증착공정에 비해 단차피복성(step coverage)이 뒤떨어지는 단점이 있다.
단일 문제
정답
4번 : CVD는 일반적으로 물리적 증착공정에 비해 단차피복성(step coverage)이 뒤떨어지는 단점이 있다.
해설

이 문제의 정답은 4번입니다. 9급 지방직 공무원 서울시 공업화학 영역에서 자주 출제되는 유형으로, 각 보기를 비교하며 핵심 개념을 정리해 두면 유사 문제에 충분히 대비할 수 있습니다. 상세 해설은 순차적으로 보강하고 있습니다.

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