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문제 ID: 654441

카테고리: 9급 지방직 공무원 서울시 기계일반

강의: 미분류

키워드: 없음

문제
화학기상증착법(Chemical Vapor Deposition, CVD)에 대한 설명으로 가장 옳지 않은 것은?
정답을 선택하세요
1 화학반응 또는 가스분해에 의해 가열된 기판 표면 위에 박막을 성장시키는 공정이다.
2 CVD는 인(P) 불순물이 섞인 이산화규소처럼 도핑된 SiO2의 층을 만드는 데 사용될 수 있다.
3 일반적으로 화학기상증착에 의해 생성된 실리콘 산화물막의 밀도와 기판에 대한 접합성은 열산화에 의해 생성된 것보다 우수하다.
4 반도체 웨이퍼 공정에 이산화실리콘, 질화실리콘 및 실리콘층을 추가하기 위해 널리 사용된다.
단일 문제
정답
3번 : 일반적으로 화학기상증착에 의해 생성된 실리콘 산화물막의 밀도와 기판에 대한 접합성은 열산화에 의해 생성된 것보다 우수하다.
해설

이 문제의 정답은 3번입니다. 9급 지방직 공무원 서울시 기계일반 영역에서 자주 출제되는 유형으로, 각 보기를 비교하며 핵심 개념을 정리해 두면 유사 문제에 충분히 대비할 수 있습니다. 상세 해설은 순차적으로 보강하고 있습니다.

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